A projekt célja, hogy a 10nm karakterisztikus méret alatti korszerű, 3 dimenziós gyártási eljárással készülő mikroelektronikai eszközök kutatás-fejlesztéséhez, illetve gyártásközi minőségellenőrzéséhez szükséges új méréstechnikai eljárások kidolgozása. A projektben Európa és Izrael vezető félvezetőipari méréstechnikai vállalatai vesznek részt a legnagyobb mikroelektronikai kutatóintézetek, valamint számos egyetem közreműködésével.A Semilab Zrt. fő feladata a projektben tűerősített Raman-spektroszkópiai elrendezés fejlesztése új típusú mikroelektronikai eszközök minősítésére.