KÍSÉRLETI GYÁRTÓSOR FEJLESZTÉSE ÖT NANOMÉTERES GENERÁCIÓJÚ NANOELEKTRONIKAI TECHNOLÓGIÁKHOZ

A mikro- és nanoelektronika fejlődésének egyik jellemző leírását Moore törvénye mondja ki. Gordon Moore, az Intel és a félvezetőipar egyik alapítója megfigyelte, hogy a technológiai fejlődés üteme olyan gyors, hogy egy adott területű mikrocsipen lévő elemi alkotóegységek, tranzisztorok száma kétévente megduplázódik.

Mindez természetesen rendkívül intenzív kutatási és fejlesztési munka eredménye, amely sok esetben nemzetközi együttműködésben valósul meg. Ilyen nemzetközi K+F projekt az ECSEL JU európai uniós szervezet és a Nemzeti Kutatási Fejlesztési és Innovációs Alap által támogatott, „Kísérleti gyártósor fejlesztése öt nanométeres generációjú nanoelektronikai technológiákhoz” nevű projekt is.

A holland fotolitográfiai berendezésgyártó cég, az ASML által koordinált munka célja az 5 nanométeres, azaz a jelenleg tömeggyártásban lévő technológiai generáció után következő megoldások fejlesztése. A munkába a magyar Semilab Zrt., a félvezetőipari méréstechnológiai piac jelentős szereplője is bekapcsolódott. Feladata a szilíciumszeleteken kialakított, néhány nanométeres egyedi struktúrák tulajdonságainak (összetétel, mechanikai feszültség, stb.) meghatározására szolgáló, automatizált berendezés kifejlesztése.

A NEMZ_16-1-2017-0014. számú projekt a Nemzeti Kutatási Fejlesztési és Innovációs Alapból biztosított támogatással, a „Közös EU-s kezdeményezésekbe való bekapcsolódás támogatása (NEMZ_16)” pályázati program finanszírozásában valósul meg.

Az NKFI Alap által nyújtott támogatás összege 102 300 000 Ft.