A mindennapi élet számos területén, használati tárgyaink többségében jelen lévő mikroelektronikai eszközök (mikroprocesszorok, memóriák, különféle érzékelők, vezeték nélküli technológiák) folyamatos fejlődése, a fokozódó miniatürizálás egyre újabb és újabb gyártástechnológiák kidolgozását teszi szükségessé.

Ezek a különféle mikrocsipek legnagyobb részben a Távol-Keleten készülnek, de az előállításukhoz felhasznált gyártó- és minőségellenőrző berendezések terén Európa piaci szerepe jelentős, és az új generációs technológiák fejlesztésében is jelentős európai közreműködésre van szükség. Európa legjelentősebb, nemzetközi személyzettel működő kutatóintézete ezen a szakterületen a leuveni IMEC, legnagyobb vállalkozása pedig a fotolitográfiai berendezéseket gyártó holland ASML.

Utóbbi cég vezeti azt a nemzetközi K+F konzorciumot, amelynek egyetlen magyar tagja az NKFIA támogatás kedvezményezettje, a Semilab Zrt., és amely a 7 nanométeres generációjú mikroelektronikai technológia gyártásához és gyártásközi minőségellenőrzéséhez szükséges berendezések kifejlesztését tűzte ki céljául. A konzorcium tagja a fent említett IMEC is, valamint számos, a nemzetközi piacon jelentős részesedéssel bíró európai és izraeli félvezetőipari berendezésgyártó is.

A Semilab Zrt. feladata a projektben a csipgyártás kiindulópontjául szolgáló szilícium-szelet minőségét vizsgáló berendezés fejlesztése, amely infravörös képalkotással a gyártási folyamat során kritikus problémákat okozó anyagi hibák kimutatását teszi lehetővé.

A projekt a Nemzeti Kutatási, Fejlesztési és Innovációs Alap, valamint az ECSEL Joint Undertaking nemzetközi szervezet támogatásával valósul meg, 2015. 04. 01. és 2018. 03. 31. között, NEMZ_15-1-2016-0020. szerződésszám alatt, a Széchenyi 2020 program keretében. A támogatás összege 76 672 500 Ft, a támogatási intenzitás 45,01%.